ผงทังสเตนซิลิไซด์ผง WSi2

ทังสเตนซิลิไซด์ (WSi2) เป็นสารประกอบอนินทรีย์ที่เป็นซิลิไซด์ของทังสเตน เป็นวัสดุเซรามิกที่เป็นสื่อกระแสไฟฟ้า

ใช้ในไมโครอิเล็กทรอนิกส์เป็นวัสดุสัมผัสที่มีความต้านทาน 60-80 μΩ cm; มันก่อตัวขึ้นที่ 1,000 องศา มักใช้เป็นตัวแบ่งสำหรับสายโพลีซิลิคอนเพื่อเพิ่มการนำไฟฟ้าและความเร็วสัญญาณ ชั้นทังสเตนซิลิไซด์สามารถเตรียมได้โดยการสะสมไอเคมี ตัวอย่างเช่น การใช้โมโนไซเลนหรือไดคลอโรไซเลนกับทังสเตนเฮกซะฟลูออไรด์เป็นก๊าซต้นทาง ฟิล์มที่สะสมไว้ไม่มีปริมาณสารสัมพันธ์และต้องการการหลอมเพื่อเปลี่ยนเป็นรูปแบบปริมาณสารสัมพันธ์ที่นำไฟฟ้าได้มากขึ้น ทังสเตนซิลิไซด์เป็นทางเลือกแรกสำหรับฟิล์มทังสเตน ทังสเตนซิลิไซด์ยังใช้เป็นชั้นกั้นระหว่างซิลิกอนและโลหะอื่นๆ เช่น ทังสเตน

ทังสเตนซิลิไซด์ยังมีการใช้งานในระบบเครื่องกลไฟฟ้าขนาดเล็ก และส่วนใหญ่จะใช้เป็นฟิล์มบางเพื่อผลิตวงจรไมโครสเกล สำหรับจุดประสงค์นี้ ฟิล์มทังสเตนซิลิไซด์สามารถถูกกัดด้วยพลาสมาโดยใช้ ตัวอย่างเช่น ก๊าซไนโตรเจนไตรฟลูออไรด์

WSi2 ทำงานได้ดีในการเคลือบป้องกันการเกิดออกซิเดชั่น โดยเฉพาะอย่างยิ่ง คล้ายกับโมลิบดีนัมไดซิลิไซด์ (MoSi2) ค่าการแผ่รังสีสูงของทังสเตนไดซิลิไซด์ทำให้วัสดุนี้น่าสนใจสำหรับการระบายความร้อนด้วยรังสีที่อุณหภูมิสูงและส่งผลต่อการป้องกันความร้อน