เป้าหมายเฟอร์โรวานาเดียมสปัตเตอร์

พารามิเตอร์ผลิตภัณฑ์:

• ส่วนประกอบ: Ferro Vanadium Sputtering Targets ของเราได้รับการคิดค้นสูตรอย่างพิถีพิถันเพื่อให้ได้ปริมาณวาเนเดียมที่ต้องการสำหรับการใช้งานเฉพาะ เพื่อให้มั่นใจได้ถึงประสิทธิภาพที่สม่ำเสมอและเชื่อถือได้
• ขนาด: ชิ้นงานมีรูปร่างและขนาดต่างๆ กัน รวมทั้งเป็นแผ่นกลม สี่เหลี่ยมผืนผ้า และการออกแบบที่กำหนดเอง เพื่อให้เป็นไปตามข้อกำหนดของระบบสปัตเตอร์ที่แตกต่างกัน
• ความบริสุทธิ์: เราเสนอเป้าหมายการสปัตเตอร์ด้วยระดับความบริสุทธิ์สูงตั้งแต่ 99.9 เปอร์เซ็นต์ถึง 99.999 เปอร์เซ็นต์ เพื่อให้แน่ใจว่ามีสิ่งเจือปนน้อยที่สุดและการสะสมของฟิล์มที่เหมาะสมที่สุด

การใช้งานผลิตภัณฑ์:

• อุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์: Ferro Vanadium Sputtering Targets ถูกนำมาใช้อย่างกว้างขวางในกระบวนการผลิตเซมิคอนดักเตอร์สำหรับการสะสมของฟิล์มที่มีส่วนประกอบของวาเนเดียมซึ่งใช้ในอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ รวมถึงวงจรรวม อุปกรณ์หน่วยความจำ และเซ็นเซอร์
• การเคลือบออปติกและฟิล์มบาง: เป้าหมายเหล่านี้นำไปใช้ในกระบวนการเคลือบออปติก เช่น การเคลือบป้องกันแสงสะท้อนบนเลนส์ กระจก และฟิลเตอร์ ตลอดจนในการผลิตฟิล์มบางสำหรับเซลล์แสงอาทิตย์และเทคโนโลยีการแสดงผล

• สื่อเก็บข้อมูลแบบแม่เหล็ก: Ferro Vanadium Sputtering Targets ถูกนำมาใช้ในการผลิตสื่อเก็บข้อมูลแบบแม่เหล็ก รวมถึงฮาร์ดดิสก์ไดรฟ์และเทปแม่เหล็ก เพื่อเพิ่มคุณสมบัติทางแม่เหล็กและความจุในการจัดเก็บ