Monocrystalline Silicon Wafer ขัดเงา

Monocrystalline Silicon Wafer ขัดเงา

เราสามารถปรับแต่งวัสดุ ข้อมูลจำเพาะ และการเคลือบออปติคัลสำหรับส่วนประกอบออปติคัลของคุณได้ตามความต้องการของคุณ

คำอธิบาย

 

คำอธิบาย

โมโนคริสตัลไลน์ซิลิคอนเวเฟอร์ใช้ในการผลิตไมโครโปรเซสเซอร์ ชิปหน่วยความจำ เซ็นเซอร์ เซลล์แสงอาทิตย์ และอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์อื่นๆ สิ่งเหล่านี้จำเป็นสำหรับการพัฒนาอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูงและให้ประสิทธิภาพที่เหนือกว่าเมื่อเทียบกับเวเฟอร์ประเภทอื่นๆ

คำอธิบาย
 

 

เส้นผ่านศูนย์กลาง

0.2-300มม

ความหนา

0.1-100มม

ความทนทานต่อมิติ

บวก /-0.1 มม. หรือบวก /-0.02 มม

คุณภาพพื้นผิว (ขูด & ขุด)

60/40, 40/20 หรือดีกว่า

รูรับแสงที่ชัดเจน

>85%, >90 เปอร์เซ็นต์

ความแม่นยำของพื้นผิว

L/10 L/2 L

ความเท่าเทียม

บวก /-3' , บวก /-30''

เอียง

{{0}}.1~0.3 มม. x 45 องศา

การเคลือบผิว

AR, BBAR หรือกำหนดเอง

 

Polished Monocrystalline Silicon Wafer

Polished Monocrystalline Silicon Wafer

คุณสมบัติ

Monocrystalline silicon wafer เป็นวัสดุตั้งต้นของซิลิกอนที่มีความบริสุทธิ์สูง มีโครงสร้างผลึกที่สมบูรณ์ และผิวเรียบ ซึ่งมีลักษณะดังต่อไปนี้:

 

ความบริสุทธิ์สูง: ความบริสุทธิ์ของเวเฟอร์ซิลิคอนชนิดโมโนคริสตัลไลน์นั้นสูงมาก โดยปกติแล้วจะสูงถึงกว่า 99.9999 เปอร์เซ็นต์ และเป็นวัสดุเซมิคอนดักเตอร์ที่บริสุทธิ์อย่างยิ่ง

 

โครงสร้างผลึกสมบูรณ์: โมโนคริสตัลไลน์ซิลิคอนเวเฟอร์เป็นผลึกซิลิกอนที่เติบโตในเตาเผาอุณหภูมิสูง โครงสร้างผลึกมีความสมบูรณ์มากและมีคุณสมบัติทางไฟฟ้าและแสงที่ดีเยี่ยม

 

พื้นผิวเรียบ: พื้นผิวของเวเฟอร์ซิลิคอนชนิดโมโนคริสตัลไลน์ได้รับการขัดเงาหลายครั้ง และพื้นผิวเรียบและแบนมาก ซึ่งสามารถตอบสนองความต้องการของการผลิตที่มีความแม่นยำสูง

 

ความสามารถในการควบคุมที่แข็งแกร่ง: ทิศทางการเติบโตของผลึกและโครงสร้างขัดแตะสามารถควบคุมได้ในระหว่างกระบวนการเติบโตของเวเฟอร์ซิลิคอนผลึกเดี่ยว เพื่อให้ได้ซิลิคอนเวเฟอร์ที่มีรูปร่างและขนาดเฉพาะ

 

 

 

 

ป้ายกำกับยอดนิยม: เวเฟอร์ซิลิคอนโมโนคริสตัลไลน์ขัดเงา

คุณอาจชอบ

ถุงช้อปปิ้ง