Monocrystalline Silicon Wafer ขัดเงา
เราสามารถปรับแต่งวัสดุ ข้อมูลจำเพาะ และการเคลือบออปติคัลสำหรับส่วนประกอบออปติคัลของคุณได้ตามความต้องการของคุณ
คำอธิบาย
คำอธิบาย
โมโนคริสตัลไลน์ซิลิคอนเวเฟอร์ใช้ในการผลิตไมโครโปรเซสเซอร์ ชิปหน่วยความจำ เซ็นเซอร์ เซลล์แสงอาทิตย์ และอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์อื่นๆ สิ่งเหล่านี้จำเป็นสำหรับการพัฒนาอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์ขั้นสูงและให้ประสิทธิภาพที่เหนือกว่าเมื่อเทียบกับเวเฟอร์ประเภทอื่นๆ
คำอธิบาย
|
เส้นผ่านศูนย์กลาง |
0.2-300มม |
|
ความหนา |
0.1-100มม |
|
ความทนทานต่อมิติ |
บวก /-0.1 มม. หรือบวก /-0.02 มม |
|
คุณภาพพื้นผิว (ขูด & ขุด) |
60/40, 40/20 หรือดีกว่า |
|
รูรับแสงที่ชัดเจน |
>85%, >90 เปอร์เซ็นต์ |
|
ความแม่นยำของพื้นผิว |
L/10 L/2 L |
|
ความเท่าเทียม |
บวก /-3' , บวก /-30'' |
|
เอียง |
{{0}}.1~0.3 มม. x 45 องศา |
|
การเคลือบผิว |
AR, BBAR หรือกำหนดเอง |


คุณสมบัติ
Monocrystalline silicon wafer เป็นวัสดุตั้งต้นของซิลิกอนที่มีความบริสุทธิ์สูง มีโครงสร้างผลึกที่สมบูรณ์ และผิวเรียบ ซึ่งมีลักษณะดังต่อไปนี้:
ความบริสุทธิ์สูง: ความบริสุทธิ์ของเวเฟอร์ซิลิคอนชนิดโมโนคริสตัลไลน์นั้นสูงมาก โดยปกติแล้วจะสูงถึงกว่า 99.9999 เปอร์เซ็นต์ และเป็นวัสดุเซมิคอนดักเตอร์ที่บริสุทธิ์อย่างยิ่ง
โครงสร้างผลึกสมบูรณ์: โมโนคริสตัลไลน์ซิลิคอนเวเฟอร์เป็นผลึกซิลิกอนที่เติบโตในเตาเผาอุณหภูมิสูง โครงสร้างผลึกมีความสมบูรณ์มากและมีคุณสมบัติทางไฟฟ้าและแสงที่ดีเยี่ยม
พื้นผิวเรียบ: พื้นผิวของเวเฟอร์ซิลิคอนชนิดโมโนคริสตัลไลน์ได้รับการขัดเงาหลายครั้ง และพื้นผิวเรียบและแบนมาก ซึ่งสามารถตอบสนองความต้องการของการผลิตที่มีความแม่นยำสูง
ความสามารถในการควบคุมที่แข็งแกร่ง: ทิศทางการเติบโตของผลึกและโครงสร้างขัดแตะสามารถควบคุมได้ในระหว่างกระบวนการเติบโตของเวเฟอร์ซิลิคอนผลึกเดี่ยว เพื่อให้ได้ซิลิคอนเวเฟอร์ที่มีรูปร่างและขนาดเฉพาะ
ป้ายกำกับยอดนิยม: เวเฟอร์ซิลิคอนโมโนคริสตัลไลน์ขัดเงา
ส่งคำถาม
คุณอาจชอบ


